国创光谷上城

国创光谷上城位于东湖高新科技开发区，该区作为光电子产业基地所在地，以高新技术及相关产业为基础，以创新服务为特色，融研发、服务、生产、居住、游憩为一体的多元复合城市地区。规划确立了“向东集束拓展，交通先导、生态优先，复合化、簇群化”的空间发展策略。国创光谷上城西邻光谷九小，南邻湖北第二师范学院、东邻胜利水库及三环线、北邻湖北体育运动学院，项目用地面积122566.56㎡，建筑面积342730.02㎡。国创光谷上城整体分三期开发，自身拥有12.8万方的商业配套，以商场、娱乐、餐饮、商务、酒店等多种物业形态存在。其中一期用地面积32578.97㎡，建筑面积85047.01㎡；容积率2.1，绿化率37%，本期主要建筑包括高层、小高层、别墅以及综合配套设施。